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Plasma à couplage inductif

Plasma à couplage inductif

ICP2060T - inductif spectromètre d’émission de Plasma ICP 2060T séquentielle inductivement couplé Plasma spectromètre d’émission est conçu pour mesurer majeur, mineur et oligo-éléments dans divers échantillons avec des performances exceptionnelles. Propose plus de 70 éléments peuvent être mesurée analyse rapide, 5-8...

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Produit de détail

ICP2060T - spectromètre d’émission avec Plasma induit
PIC-2060T séquentielle inductivement couplé Plasma spectromètre d’émission est conçu pour mesurer majeur, mineur et oligo-éléments dans divers échantillons avec des performances exceptionnelles.


Caractéristiques de Plasma à couplage inductif
Plus de 70 éléments peuvent être mesurées
Analyse rapide, 5-8 éléments / minute ;
Limites de détection excellente, au niveau du ppb pour la plupart des éléments
Gamme dynamique large linéaire, atteignant 6 ordres de grandeur, de ppb à pourcentage ;
Plus faible consommation de gaz ; Chaque bouteille de gaz argon peut être utilisé pendant 8 heures ;
Conception optique avec un caillebotis holographique entièrement illuminée, avec correction d’interférence spectrale et haut rendement lumineux pour les limites de l’amélioration de la détection avancée
Longueurs d’onde large
190nm à 500 nm avec caillebotis 3600 ligne
190nm à 800 nm avec ligne de 2400 cailleboti
Plate-forme de plasma contrôlé par ordinateur optimise la position de visionnement pour réduire les interférences, améliorer SNR et minimiser
émissions de fond
Flux de logiciel contrôlée de gaz porteur, gaz plasma et gaz auxilliaire fournir surveillance en temps réel ainsi que très stabilité du flux.
Différents types de torches à plasma, nébuliseur ainsi que chambre de pulvérisation sont facultatifs.
Choix de l’échantillonneur automatique améliore considérablement l’efficacité
Déchets d’échantillon drainé par pompe péristaltique assure le débit échantillon stable ; Mode rapide pompe améliore la productivité
Le nouveau générateur de 27,12 MHz RF course libre, robuste qui offre des performances inégalées
Système d’accouplement automatique rapide et précise assure le transfert de pouvoir ultime efficacité et stabilité
Allumage de plasma d’un seul bouton
Par il suffit de cliquer le bouton « enflammer » dans le logiciel, le plasma peut être enflammé immédiatement
La fonction « graph diagnostic » fournit des informations sur les progrès statut et analyse d’instrument (comme la figure 3)
Analyse multi-éléments
Après avoir sélectionné les éléments et réglage des paramètres de mesure, instrument mesurera automatiquement avec résultats affichés directement. (comme la figure 4)
Gestion de base de données améliorée
La base de données contient plusieurs milliers de la raie spectrale, où les utilisateurs peuvent choisir librement basé sur la méthode d’application. (comme la figure 5)
Logiciel puissant et convivial
Le logiciel professionnel fournissent d’excellentes caractéristiques et multi accès aux fonctions comme suit :
Gestion des données, quantitative et des analyses qualitatives, tester le paramétrage, une génération de rapports de bouton, correction de fond et d’ingérence, mode étalonnage rapide, indication de statut d’instrument et diagnostic en ligne soi.


Spécifications du Plasma à couplage inductif
Taille : 1,5 m × 0.8 m × 0.8 m
Pouvoir de l’état solide
Fréquence : 27,12 MHz
Stabilité de fréquence :<>
Méthode en couple : match Auto
Puissance : 800W ~ 1600W, réglable en continu avec une efficacité énergétique plus de 65 %
Stabilité de puissance de sortie : ≤ 0,05 %
Bobine d’induction : ID 25 mm × 3, équipé de trois tubes de torche quartz concentriques de ED 35mm (ID : diamètre intérieur ; ED : diamètre extérieur)
Chambre de pulvérisation : chambre de pulvérisation de laissez-passer double Scott
Monochromateur
Optique type : Czery turner
Longueur focale : 1000mm
Spécifications de la grille : immense caillebotis holographique avec 3600L/mil ou 2400 L/mil et 80 × 100 mm de la zone de décision
Résolution : ≤0.015nm (3600 ligne caillebotis), ≤0.030nm (grille de ligne de 2400)
Gamme de longueur d’onde : 195 ~ 500 nm pour les caillebotis, 3600 ligne 195 ~ 800 nm pour ligne de 2400 râpage.
Circuit de commande électronique de Measurementand
Spécification du tube photomultiplicateur : r R212/928
Négatif de haute tension : (-50 ~ -1000) V
Circuit de plage de mesure : (10-12 ~ 10-4) A
Acquisition du signal : conversion de VF


Spécifications techniques du Plasma à couplage inductif
Plage des teneurs en échantillon 1) :
a. liquide échantillon : 0,01 ppm ~ plusieurs milliers ppm
b. échantillon de solide ou de poudre : 0,001 % ~ 70 %
2) répétabilité : stabilité à court terme, RSD≤1.5%
Stabilité à long terme 3) : RSD≤2 %
4) Vitesse d’essai : 5 ~ 8 éléments/min
5) limites de détection (LOD, μg/L) pour les éléments typiques : 1 ppb ~ 10 ppb

Élément

La

Ce

PR

ND

SM

Union européenne

GD

TB

Λ (nm)

408.672

413.765

414.311

401.225

360.946

381.967

342.247

350.917

LOD

<>

<>

<>

<>

<>

<>

<>

<>


Élément

DY

Ho

Cateur

TM

YB

Lu

Y

SC

Λ (nm)

353.170

345.600

337.271

313.126

369.419

261.541

371.030

335.373

LOD

<>

<>

<>

<>

<>

<>

<>

<>


Élément

Ta

N.-b.

Mn

Mg

B

Zn

Co

Si

Λ (nm)

226.230

313.340

257.610

279.553

249.773

13.856

228.616

251.611

LOD

<>

<>

<>

<>

<>

<>

<>

<>


Élément

Ni

CD

Fe

Ca

Mo

V

Être

TI

Λ (nm)

232.003

226.502

239.562

393.366

281.615

310.230

313.041

334.941

LOD

<>

<>

<>

<>

<>

<>

<>

<>


Élément

Cu

CR

Al

ZR

AG

SR

Au

PT

Λ (nm)

324.754

267.716

396.152

343.823

328.068

407.771

242.795

265.945

LOD

<>

<>

<>

<>

<>

<>

<>

<>


Élément

PD

IR

RH

Ru

BA

Λ (nm)

340.458

224.268

343.489

240.272

455.403

LOD

<>

<>

<>

<>

<>


Élément

Comme

SB

Bi

Hg

PB

GA

Se

Λ (nm)

228.812

206.833

223.061

253.652

220.353

294.364

203.985

LOD

≤15

≤15

≤10

≤15

≤15

≤10

≤10


Élément

SN

Te

Ta

Th

TL

Re

GE

Λ (nm)

242.949

214.281

226.230

283.730

276.787

227.525

209.426

LOD

≤20

≤10

≤5.0

≤10

≤30

≤5

≤15


Élément

Système d’exploitation

W

Se

Li

Na

K

Λ (nm)

225.585

207.911

203.985

670.784

588.995

766.490

LOD

≤1

≤10

≤30

≤3

≤20

≤60


Domaines d’application de Plasma inductif
Métaux de terres rares
Matériaux de silicium, l’industrie de transformation des matériaux magnétiques
Industrie métallurgique : analyse des impuretés éléments influant sur la qualité des matériaux métalliques
Contrôle de qualité de l’eau :
Géologie, minéraux
Pétrochimie : mesures de plus de 30 éléments dans le pétrole brut
Pharmacie, hygiène, agriculture, protection de l’environnement, produits et industrie alimentaire


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